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小型分體式磁控濺射儀(50mm靶頭,可選直流或射頻電源,手套箱內可用)
關鍵字:
射頻/直流可選、Ar手套箱內可用
型號:
VTC-2RF-STX(2英寸)(內部名稱:單靶射頻磁控濺射儀)
產品概述:
VTC-2RF-STX是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選,用于鍍膜各種薄膜材料
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技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
產品名稱型號

分體式單靶磁控濺射儀(射頻/直流可選,Ar手套箱內可用) VTC-2RF-STX(2英寸)

電源

AC220V/50HZ

射頻電源(選配)

· 輸入電源:220V

· 輸出功率:0-300W

· 輸出頻率:13.56 MHZ

· 冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷  

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直流電源(選配)

· 輸入電源:220V

· 直流輸出功率:0-500W

· 最大工作電流:0.75A

· 冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷  

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石英腔室

·石英罩:167mm ODx152mm IDx250mm H

·下法蘭蓋為304不銹鋼材質,上法蘭蓋為鋁材質

·腔室極限真空度

 配置機械泵<1pa(7.5*10-2 torr)

 配置分子泵<5*10-3Pa(3.7*10-5 torr)

·法蘭蓋上帶有手動泄壓閥

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樣品臺

· 一個直徑為Φ50mm的不銹鋼樣品臺,樣品臺可轉動,旋轉速率為:0.5-5 RPM/min;

· 樣品臺標配加熱功能,樣品臺最高加熱溫度500℃;

· 可以根據客戶需要選配樣品臺冷卻功能,樣品臺冷卻最低溫度5℃。

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濺射靶頭

· 標配2英寸的磁控濺射頭,內部嵌有冷卻水管,可以通水冷實現對磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長時間進行濺射;

· 配有一手動操作的擋板,當第一次濺射清除靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片;

· 樣品臺和靶頭之間的距離可以調節,調節范圍:60-80mm。

 (可根據客戶要求選配1英寸的磁控濺射頭)

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靶材

· 設備標配一塊銅靶材,尺寸:φ50.8mm(2″)x 3 mm(厚度);

  客戶如果需要其它靶材,可聯系銷售進行訂購,

· 可選購濺射靶材:Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn等。

· 要求靶材尺寸:Φ50.8mm×0.1- 5mm(厚度)


饋通(選配)

· 如果您打算在手套箱內使用此設備,請選配 KF40 饋通,用于連接手套箱外的電源、冷水機和真空泵

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水冷設備(選配)

· 型號:KJ-5000

· 工作電流:1.4-2.1A

· 制冷量:2361Btu/h

· 尺寸:55×28×43cm(長×寬×高)

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薄膜測厚儀(選配)

· 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監測薄膜的厚度,分別率為0.10 ?

· LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據

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真空泵(選配)

·機械泵型號:VRD-8

·抽速:2.2L/S(8m3/h)

·進氣口:KF25

·工作環境溫度:5-40℃

·噪音:≦56 dB  

·極限真空度:5*10-4 torr(不帶負載)

·為了達到更好的鍍膜效果,可選購分子泵對濺射腔體抽真空,

 真空度可達到10-5Torr

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外形尺寸

· 主機尺寸:460Lx300Wx715H mm

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重量

20KG

保質期

1年(不包含噴頭、加熱元件、注射器等損耗件)

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注意事項

· 腔室內氣壓不可高于0.02MPa(相對氣壓);

· 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向石英管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,為了確保安全,建議使用壓力低于0.02MPa,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全;

· 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

· 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體,如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體,請客戶自行做好相關防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關問題,本公司概不負責。


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