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走進科晶

About HF-Kejing

科晶五十臺晶圓產線專用高溫爐發貨,筑夢芯片事業發展。

發布時間:2021-08-20

五十臺晶圓產線專用1700℃高溫箱式爐和1100℃ 11英寸大口徑管式爐發貨,希望能為芯片事業的發展貢獻一點微薄之力。感謝半導體產業界對科晶的認可




   碳化硅是全球最先進的第三代半導體材料。和第一代的硅、第二代的砷化鎵材料相比,它具有耐高壓、高頻、大功率等優良的物理特性,是衛星通訊、高壓輸變電、軌道交通、電動汽車、通訊基站等重要領域的核心材料。科晶聯盟提供全套碳化硅基片研發的全套設備, 為新一代碳化硅基片的開發助力。



編 號

設備名稱 &  P/N

照 片


用 途


1

100T壓機

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將粉末預壓成圓片以便均勻蒸發或融化

2


SiC 晶體生長



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TSSG                  Sublimation

真空感應加熱晶體生長爐( 2000 -2400oC)

· 頂部籽晶溶液生長

· 升華外延生長

3

高溫退火爐

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1600 – 1800oC

+/- 0.1 C 精度

4

單晶定向

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晶體定向

5

SiC晶片切割


1-8.png

金剛石線精確切片

6

SiC基片外延拋光

1-9.png          1-10.png

光潔度 《 10A

7

等離子& 臭氧清洗

1-11.png 1-12.png

外延薄膜生長前去除表面污染

8

晶片包裝盒

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安全包裝盒運輸




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